板卷频道

当前位置:板卷频道>正文

世创科技离子源系统,使您的不锈钢产品更炫!

日期:2020-02-17 08:40:598976标签:市场快讯 精品专题 行业新闻

PVD即物理气相沉积,是当前国际上广泛应用的先进的表面处理技术。它具有沉积速度快和表面清洁的特点,特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。
PVD镀膜机主要用于电子行业,半导体行业,光学及玻璃行业以及太阳能薄膜等行业,近几年不锈钢行业对PVD镀膜机的需求明显。
11.jpg
    世创科技作为热处理的杰出代表,在这一领域颇有建树,其与俄罗斯专家的共同研究与开发的离子束辅助沉积技术(世创离子源系统),获得了国家专利(《一种多功能等离子体增强涂层系统》专利号201220594109.9)认可。

专利技术

这一专利技术是基于对西安430厂用户使用的世创公司SC1300航空叶片涂层机生产的调研反馈得知——该结构离子源使工件表面刻蚀清洗效果明显提高,沉积后的涂层结合力更好。
22.jpg
该系统的基本原理是在工艺进行气体离子刻蚀清洗阶段,采用电弧离子镀膜系统中相对的一对沉积用阴极电弧靶通过控制电路对弧电源的切换组成一对串联的阴极靶与阳极靶,阳极靶前配有挡板装置,只允许气体离子通过,形成一个离子源系统。
该系统根据涂层机真空室大小及电弧靶的多少,可设置1个或多个离子源系统,并可高低按需分布,达到均匀覆盖有效工作区域的要求。离子源气体离子刻蚀强度可通过控制弧电源的输入功率进行调节。
在进入沉积工艺阶段时各靶又切换回沉积用阴极靶进行正常的沉积阴极靶使用。
沉积阴极靶和离子源系统靶的切换是在工艺流程设定中由电脑程序自动切换,全自动运行。

耗材利用率超过80%

在真空等离子电弧镀生产过程中,靶材是一种费用较大的耗材,特别是使用一些贵重材料制成的靶材,价格昂贵,如果在只用过程中靶材的利用率不高的话,浪费是非常惊人的,同时增加了产品的生产成本。

33.jpg

传统技术的圆饼形电弧靶存在问题是靶材工作面的边缘弧斑很少烧蚀到,变成靶面烧蚀呈锅底凹状,靶材的利用率很低;目前多数设备的靶材利用率不超过50%。同时要经常人工观察,手工调整,不利于涂层设备长时间的连续工作。

世创科技的真空等离子镀膜机,是与俄罗斯专家的共同研究与开发的,用电磁起弧代替传统的起弧方式,在靶表面形成等离子弧斑在靶的整个表面进行均匀灼烧,直到起弧装置的触点为止,而新型电磁多弧靶的起弧触点位置接近靶的底部,从而保证了靶材的使用率大于80%以上。

44.jpg

使用前后靶材尺寸变化

世创镀膜机不仅仅是一台设备,它是我们对完美的追求!”

55.jpg世创科技相继在2015年和2018年中标西安航空动力有限责任公司和无锡透平叶片有限公司以来,2019年11月再次与陕西四达航空科技有限责任公司签订了耐热涂层机设备的供货合同。
66.jpg
这充分体现了世创的涂层机逐步在航空发动机领域打开了局面。目前世创的科研技术人员正在此领域深耕细作,使该设备在我国航空发动机行业继续发扬光大。

77.jpg

〖51不锈钢〗是信用行科技旗下资讯平台,网站:www.51bxg.com

|行情报价|供应商|点“阅读原文”获取,咨询:0757-83879051  


文章评论
0/150
    显示更多
    • 会员服务